低气压下玻璃表面沉积类金刚石薄膜的性能研究

摘要：

采用射频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法以甲烷气体为碳源,在玻璃基体上沉积类金刚石(DLC)薄膜作为保护层,并研究低气压(0.1～2.6Pa)沉积条件下薄膜的结构、氢含量、表面形貌、光学常数与摩擦磨损特性.结果表明,薄膜的拉曼光谱呈现典型的类金刚石结构,推断薄膜中氢元素含量随气压升高先减小再增大.椭偏分析结果表明薄膜的折射率与消光系数均随气压升高先增大再减小,与氢元素含量呈现相反的变化趋势.薄膜表面光滑平整,粗糙度仅为3A左右,且随气压升高而增大,其中0.13Pa、200W、甲烷流量为80sccm时制备的DLC薄膜具有最佳的耐磨性能,对玻璃基体起到良好的保护作用.

关键词： 类金刚石薄膜 摩擦性能 射频等离子体增强化学气相沉积法 玻璃基体

作者: 黄星烨 孙瑶 左岩 汪洪

作者单位: 中国建筑材料科学研究总院,北京100024;国家玻璃深加工工程技术中心,北京100024;绿色建筑材料国家重点实验室,北京100024 中国建筑材料科学研究总院,北京100024;国家玻璃深加工工程技术中心,北京100024

会议类型: 国内会议

会议名称: 2015年全国玻璃科学技术年会

会议地点: 江苏宿迁

会议语种:中文

页码: 101-105

在线出版日期: 2015-04-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）