消影透明导电薄膜的光学设计与制备

摘要：

通过在玻璃两侧增加减反层,利用TFCalc软件优化设计得到消影增透透明导电薄膜:rrO/siO2/Nb2O5/玻璃/Nb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2.采用脉冲直流电源磁控反应溅射制备消影膜.测试表明,ITO面电阻为60Ω/□时,可见光平均透过率大于85％,颜色呈中性(丨a*丨、丨b*丨小于0.4),色差△a*、△b*小于0.5,因此该膜系可以有效减小触摸屏中透明导电薄膜受蚀刻与未受蚀刻区域之间的显示差异.

关键词： 消影透明导电薄膜 磁控溅射法 光学设计 颜色差异

作者: 孟政 刘静 汪洪

作者单位: 中国建筑材料科学研究总院绿色建筑材料国家重点实验室 北京100024;玻璃深加工工程技术中心,北京100024

会议类型: 国内会议

会议名称: 2015年全国玻璃科学技术年会

会议地点: 江苏宿迁

会议语种:中文

页码: 114-116

在线出版日期: 2015-04-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）