通过CH/π相互作用为石墨烯打开带隙的理论研究
石墨烯因为具有超高的载流子迁移率被认为是制造新一代晶体管的理想材料,但是纯净的石墨烯是没有带隙的准金属材料,阻碍了其在微电子学领域的应用.通过理论计算发现可以通过CH/π这种独特的弱相互作用,构建石墨烯与部分氢化的石墨烯(C4H)的二维异质结构材料,破坏掉石墨烯两个子晶格的对称性,进而为石墨烯打开一个带隙.并且在打开带隙的情况下,石墨烯的超高载流子迁移率仍然得以保留.
石墨烯材料 氢化反应 带隙管理 碳-氢键 π键
李亚飞 陈中方
美国波多黎各大学化学系
国内会议
苏州
中文
272-274
2014-10-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）