国产UHV/CVD系统及其生长SiGe/Si特性研究

关键词： UHV/CVD SiGe/Si 生长特性

作者: 余金中 于卓 成步文 李代宗 王启明 谢琪 雷震霖 赵科新

作者单位: 中国科学院半导体研究所(北京) 中国科学院沈阳科学仪器研制中心(沈阳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国分子束外延学术会议

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 53-56

在线出版日期: 1999-06-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）