非离子型表面活性剂对硅片表面铜沉积的影响

关键词： 非离子型表面活性剂 铜沉积 硅片

作者: 程璇 林昌健

作者单位: 厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室(厦门) 厦门大学材料科学系,固体表面物理化学国家重点实验室(厦门)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电化学会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: F029

在线出版日期: 1999-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）