退火工艺对ZnO∶Al透明导电膜光电性能影响
本文研究了溶胶-凝胶法制备Al掺杂浓度lat％的ZnO： Al透明导电膜在不同退火工艺条件下的结晶和光电性能。首先,通过讨论不同退火温度(300℃,400℃,500℃)对薄膜结构和性能的影响,发现随着退火温度的增加,薄膜取向性越好,晶粒逐渐长大,内应力逐渐减小,电阻率不断降低,可见光透过率不断提高,500℃退火温度下可见光透过率达到90％以上。其次,分析了在空气、氢气、氢气气氛下500℃退火薄膜性能的变化,研究结果表明,在氢气中退火,可获得最低的电阻率和最高的透过率,这主要是由于存在大量氢间隙原子。
透明导电膜 退火工艺 电阻率 可见光透过率
朱振业 王桂根
哈尔滨工业大学深圳研究生院材料学科部,深圳,中国,518055
国内会议
北京
中文
2067-2071
2010-12-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）