Ti-Si-N 纳米薄膜的微结构及力学性能研究
采用多靶磁控轮溅的方法沉积Ti-Si-N系纳米混合膜.利用XRD、TEM以及EDS等手段分析了薄膜的相组成及微结构.研究结果表明,薄膜以TiN为主晶相,并有一定量的Si<,3>N<,4>化合物相存在.这些化合物呈非晶或纳米晶沿TiN晶界相分布,抑制了TiN晶粒生长,使TiN也呈纳米晶.随Si含量的增加,薄膜中Si<,3>N<,4>化合物相增加,薄膜的非晶化程度提高.压痕法对薄膜的硬度测量结果表明,薄膜在低Si含量4at℅时,表现出高硬度,其值超过35GPa;然而当薄膜中Si含量超过15at℅时,薄膜硬度低于TiN薄膜的硬度,其原因与薄膜中非晶态化合物的含量增加有关.
Ti-Si-N纳米混合膜 反应溅射 微结构 超硬性 力学性质
姚应红 孔向阳 戴嘉维 李戈扬 苏州大学薄膜材料实验室(苏州)
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室(上海)
国内会议
厦门
中文
1584-1586
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）