基于方向光辐射度的微结构表面全局光照绘制

摘要：

传统辐射度算法对含有微结构表面物体的全局光照仅能通过其高精度模型计算,针对比较复杂的场景,面片规模非常大,形状因子预计算相当耗时.本文提出了一种基于低精度模型的辐射度算法,将辐射度转换为方向光辐射度,结合高度贴图、法线贴图,模拟高精度模型下的辐射光能传递,并基于精细贴图算法和预计算高度图可见性算法来完成微结构表面的绘制.实验结果表明该方法能在低精度模型辐射度算法同一量级时间内完成计算,能够高效地渲染出全局光照效果,有较高的绘制效率和真实感.

关键词： 微结构表面 全局光照 绘制效率 方向光 辐射度

作者: 彭通 王莉莉 谢乃闻 赵沁平

作者单位: 北京航空航天大学大学 计算机学院,虚拟现实技术与系统国家重点实验室,北京 100191

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届中国计算机图形学大会暨第十八届全国计算机辅助设计与图形学会会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 270-272

在线出版日期: 2014-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）