取向硅钢抑制剂透射电镜研究方法及特征

摘要：

本文介绍了利用透射电镜进行取向硅钢抑制剂分析的常用方法,对比了萃取复型、金属薄膜等方法在取向硅钢抑制剂分析中的优缺点及应用范围.透射电镜高角环形暗场像(HAADF),图像反差大有利于图像分析仪的定量分析,得到准确的钢中析出相的尺寸分布等定量数据.简单介绍了铸态AlN及常化板中细小抑制剂的形态和利用高分辨像对抑制剂进行相鉴定的方法.

关键词： 取向硅钢 抑制剂 透射电镜 定量分析

作者: 李平和 邓照军 关云 陈士华 胡守天

作者单位: 武钢研究院 国家硅钢工程技术研究中心,武汉 430080

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届中国电工钢专业学术年会

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 242-247

在线出版日期: 2010-12-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）