扩展区壁面温度对微射流流场影响研究

摘要：

基于改进的压力边界条件,对微射流结构流动及传递特性进行了数值模拟,给出了不同扩展区壁面温度条件微射流流场稀薄流动状态及其流动特性的影响规律,包括流场沿程压力及速度分布以及微射流扩展口处回流区大小受扩展区壁面温度变化的影响.研究结果表明,当扩展区壁面温度升高时,沿程压力分布更加线性化,入口流速降低.壁面温度改变导致流场稀薄特性产生变化,扩展口处回流区随着扩展区壁面温度升高而减小,流场涡流渐至消失.

关键词： 电子器件 微射流流场 沿程压力 速度分布 扩展区壁面温度

作者: 叶建军 段鹏 杨健

作者单位: 华中科技大学能源与动力工程学院,武汉 430074 浙江大学大学化学工程与生物工程学系,杭州 310027

会议类型: 国内会议

会议名称: 2014年中国计算力学大会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 1-7

在线出版日期: 2014-08-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）