超低压等离子喷涂YSZ涂层显微组织结构研究

摘要：

采用超低压等离子喷涂技术(Plasma Spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD)制备了YSZ涂层,对涂层的显微组织结构进行了分析,并对比了粘结层表面不同预处理对于YSZ涂层生长趋势的影响规律.研究结果表明:MCrAlY涂层致密,孔隙率为1.5％,结合强度达83.2MPa;YSZ涂层呈现明显的柱状晶结构.粘结层表面粗糙度对柱状晶生长方向影响较大,表面粗糙度越小,柱状晶生长方向越趋于一致,基本沿法向生长.在超低压状态下,涂层不存在“遮蔽效应”,可实现异型面涂层制备.

关键词： 氧化钇稳定氧化锆涂层 超低压等离子喷涂工艺 柱状晶结构 表面质量

作者: 杨震晓 倪立勇 戚鹏 马康智 杨杰 吴朝军

作者单位: 航天材料及工艺研究所,北京100076

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 14-19

在线出版日期: 2014-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）