热历史对等离子体喷涂热障涂层残余应力分布的影响

摘要：

以等离子体喷涂工艺制备7.5wt％ Y2O3部分稳定的ZrO2(YSZ)热障涂层经1100℃恒温热处理200h.分别采用拉曼光谱法和荧光压谱法表征陶瓷层和热生长氧化物层(TGO)中的残余应力.结果表明:制备态陶瓷层中为张应力,热处理后转变为压应力.随着热处理时间由50h增至150h,压应力逐渐增大,随后压应力略微下降;TGO层中产生的残余压应力在前50h快速增大,并致极大值,随后逐渐降低.

关键词： 氧化钇稳定氧化锆热障涂层 等离子体喷涂工艺 残余应力 拉曼光谱法 荧光压谱法

作者: 杨加胜 钟兴华 赵华玉 王亮 邵芳 陶顺衍

作者单位: 中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海201899;中国科学院 上海硅酸盐研究所,上海201899;中国科学院大学,北京100049 中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海201899;中国科学院 上海硅酸盐研究所,上海201899

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 24-30

在线出版日期: 2014-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）