等离子体喷涂工艺参数对B4C涂层性能的影响

摘要：

采用大气等离子喷涂工艺制备了B4C涂层,获得了最大沉积效率9.0μm/pass和最高显微硬度819.7Hv.结果显示:喷涂焰流中颗粒速度随电压的增大而增大;颗粒速度和温度都随送粉速率的增大而降低;颗粒速度随喷涂距离的增大而降低,颗粒温度随喷涂距离的增大先增大后减小.这直接导致涂层沉积效率随送粉速率的增加几乎呈线性增大;导致B4C涂层的显微硬度随电压增大而线性减小,随送粉速率的增大先增大后减小,随喷涂距离的增大先急剧增大后趋于平稳.

关键词： 半导体器件 碳化硼涂层 等离子体喷涂工艺 颗粒速度 颗粒温度 沉积效率 显微硬度

作者: 张有茶 夏洋 贾成厂 贾永昌 张庆钊 王文东 刘金虎

作者单位: 北京科技大学,北京,100083;北京美桥电子设备有限公司,北京,100022; 中科院微电子研究所,北京,100029 北京科技大学,北京,100083 北京廊桥材料技术有限公司,北京,100089

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 35-41

在线出版日期: 2014-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）