会议专题

非/微叠层电池nc-SiOx中间层材料的制备研究

光致衰退效应是制约非晶硅薄膜电池发展的一个重要因素.在非晶硅/微晶硅叠层电池中引入中间层结构可以对太阳光进行选择性分配,反射部分短波段的光,增加了非晶硅顶电池的光吸收从而减少顶电池的厚度,有效地提高了叠层电池的稳定效率.本文系统地研究了沉积功率、氢气稀释比H2/SiH4、CO2/SiH4等沉积参数对SiOx薄膜光电性能(晶化率、折射率、带隙、电导率等)的影响.经过工艺优化,获得了折射率为2.2、晶化率约为29%、光学带隙E04为2.38eV的n型nc-SiOx薄膜.并在0.79m2的TCO玻璃衬底上制备了具有优化的SiOx中间层非晶硅/微晶硅叠层电池,其光伏组件全面积初始转换效率达到12.8%.经过1000h光照后,稳定转换效率为11.1%.

太阳能电池 中间层结构 氧化硅薄膜 制备工艺 光电性能

俞凤至 胡安红 周星红 曲铭浩 张津岩 徐希翔 张铭 严辉

北京工业大学薄膜科学技术与研究实验室,100124;汉能高端装备产业集团 成都研发中心,610200 汉能高端装备产业集团 成都研发中心,610200 北京工业大学薄膜科学技术与研究实验室,100124

国内会议

第十四届中国光伏大会暨2014中国国际光伏展览会

北京

中文

221-227

2014-11-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)