Al/Ti0.5Al0.5N/Ti0.25Al0.75N/AlN光谱涂层的微观结构研究

摘要：

使用过渡金属氮化物(TiAlN)作为吸收层开发的光谱选择性吸收涂层,吸收率为0.926～0.945,室温发射率为0.04～0.06.采用XPS、AES、AFM和XTEM观察了光谱涂层的微观结构.与Ti0.25Al0.75N相比,Ti0.5Al0.5N中有更多的Ti-N键和更少的Ti-O-N键,由此导致了Ti0.5Al0.5N表现出类金属的性质.Ti-N键表现出类金属的特性,Ti1-xAlxN涂层的光学性质由涂层中Ti-N的含量决定:Ti0.5Al0.5N中Ti-N键含量高表现出金属特性;Ti0.25Al0.75N中Ti-N键含量低表现出电介质特性.

关键词： 光谱选择性吸收涂层 氮化物 微观结构 光学性能

作者: 郝雷 杜淼 张子楠 于庆河 刘晓鹏

作者单位: 北京有色金属研究总院能源材料与技术研究所,北京,100088

会议类型: 国内会议

会议名称: 北京金属学会第八届冶金年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 313-320

在线出版日期: 2014-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）