低熔点锌铝合金表面沉积TiN装饰膜层的工艺研究

摘要：

根据锌合金熔点低的特点，主要从膜层的相结构、膜层的表面形貌以及膜层的附着力等三方面，深入地研究了沉积TiN装饰膜的工艺。文中指出：弧电流40A、氮气分压2.5-4Pa、负偏压300～350V、基片温度150～250℃是比较好的沉积工艺。

关键词： TiN膜 锌铝合金 装饰膜层

作者: 李争显

作者单位: 西北有色金属研究院

会议类型: 国内会议

会议名称: 1999年第二届表面工程国际会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 212-213

在线出版日期: 1999-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）