制备高质量Ti-N膜的多弧离子镀

摘要：

文章研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数：磁场、弧电流、偏压和氮气流量对膜层质量的影响，详细了它们的影响膜层特性的原因。实验证明：提高弧电流的同时，抑制液滴的产生，是提高膜层质量，提高生产率的有效途径。

关键词： Ti-N膜 多弧离子镀

作者: 徐新乐

作者单位: 北京8917信箱

会议类型: 国内会议

会议名称: 1999年第二届表面工程国际会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 210-211

在线出版日期: 1999-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）