TFT-LCD光刻工艺掩膜板耐Particle研究

摘要：

在TFT-LCD生产过程中,重复性缺陷是光刻工艺中最常出现的一类不良,它的特点是不良在显示屏上位置固定,重复出现的规律性明显.在对该不良多年的跟踪研究过程中发现,个别尺寸产品在生产中发生概率较为频繁;本文首先介绍了光刻工艺和掩膜板(Mask)的构造,之后使用Canon MPA7800镜像投影对位曝光机为实验设备,对掩膜板耐Particle性能进行了深入分析与探讨,得出耐Particle的影响因素为曝光剂量,并且量化了曝光计量与耐Particle性能指标的数值关系.

关键词： 薄膜晶体管 液晶显示器 光刻工艺 重复性缺陷 掩膜板 耐微粒性能

作者: 重云 郭慧鹏 闵泰烨 李文锋 田露 夏子祺 彭志龙

作者单位: 北京京东方光电科技有限公司,北京 100176

会议类型: 国内会议

会议名称: 2014中国平板显示学术会议

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 90-92

在线出版日期: 2014-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）