Cu纳米线辅助介质阻挡放电研究
介质阻挡放电(DBD)因其放电电极之间存在介质层,可在高气压,甚至是大气压下,实现辉光放电,是获取非平衡态低温等离子体有效的方法之.但高的工作气压,造成工作电压也随之增大,放电稳定性下降.本文提出在DBD放电器件的多孔氧化铝介质层的纳米孔洞中,沉积生长铜金属纳米线增强器件性能的方法,对Cu纳米线的制作工艺和纳米线的引入对气体放电光电性能的影响进行了研究.实验结果证明Cu纳米线的引入,显著降低了放电所需的击穿电压以及熄灭电压,同时放电发光稳定性得到了改善.
等离子体器件 介质阻挡放电 铜金属纳米线 制备工艺 光电性能
梁志虎
电子物理与器件教育部重点实验室,西安交通大学,陕西 西安 710049
国内会议
南京
中文
132-134
2014-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）