使用多层结构制备高透光率低电阻纳米银薄膜
银纳米线薄膜可以代替氧化铟锡(ITO)应用于大规模生产制造柔性透明导电薄膜.然而,使用传统的镀膜方法,纳米银线之间随机排列连接,透明导电薄膜的光电性能较差.通过多层镀膜工艺制备出具有高透光率和高导电性能的薄膜,并研究了涂层数量对纳米银薄膜光电性能的影响.结果表明,在相同厚度和浓度的条件下,多层结构可以在不影响透光率情况下大幅度降低薄膜表面电阻.最终制得的纳米银导电薄膜具有低片电阻值45Ω/sq.和高透光率95.07％.
电子器件 透明导电薄膜 纳米银线 制备工艺
韩宋佳 刘贵师 杨柏儒 陈惠琄 侯胜雄 徐晶莹 陈司芬 谢汉萍
物理科学与技术工程学院,光电材料与技术国家重点实验室,中山大学,广东,广州,510275 广东顺德中山大学一卡内基梅隆大学国际联合研究院,广东,佛山,528300 纬创资通中山有限公司,广东,中山,528400 光电工程学系显示科技研究所,国立交通大学,台湾,新竹,30010
国内会议
南京
中文
326-328
2014-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）