正电子颗粒跟踪技术及其在磨矿模拟中的应用

摘要：

介绍了正电子颗粒跟踪技术特点及其在磨矿模拟中的应用,重点阐述了该技术在球磨机、立式搅拌磨机、艾萨磨机等磨机研磨介质运动状态、功率需求计算等方面的应用现状,并对其在矿物加工领域的应用前景进行了分析.

关键词： 磨矿模拟 研磨介质 运动状态 正电子颗粒跟踪技术

作者: 肖骁 张国旺 黄礼龙 石立 龙渊

作者单位: 长沙矿冶研究院有限责任公司,湖南 长沙 410012

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国选矿专业学术年会

会议地点: 银川

会议语种:中文

页码: 258-261

在线出版日期: 2014-08-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）