一种黑色聚酰亚胺薄膜的制备及性能研究

摘要：

以对苯二氨基二苯醚(ODA)为二胺单体,联苯四甲酸二酐(BPDA)为二酐单体,经缩聚反应得到聚酰胺酸,然后加入炭黑经表面活性剂及超声分散处理后,涂膜、热亚胺化处理制备了黑色聚酰亚胺(pI)薄膜.探讨了黑色PI薄膜形成过程的主要影响因素,并对其拉伸强度、热性能等相关性能进行了测试.结果表明,随炭黑含量的增加,PI膜的透光率逐渐下降,当炭黑含量为3％以上时,薄膜基本不透光;表面活性剂的加入,提高了黑色PI膜的力学性能但并没有影响到其热稳定性.

关键词： 光电子产品 黑色聚酰亚胺薄膜 制备工艺 物理性能 结构表征

作者: 杨志兰 李桢林 严辉 范和平

作者单位: 江汉大学,光电化学材料与器件省部共建教育部重点实验室 华烁科技股份有限公司 江汉大学,光电化学材料与器件省部共建教育部重点实验室;华烁科技股份有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届中国覆铜板技术·市场研讨会暨覆铜板产业协同创新国际论坛

会议地点: 东莞

会议语种:中文

页码: 70-75

在线出版日期: 2014-09-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）