粉末溅射金属氧化物薄膜气敏元件
本文指出了薄膜元件能否实用化的关键在气敏层的稳定性,并提出了粉末溅射和高能溅射是气敏层稳定性的保证.说明了能实用化的薄膜元件是否能生产还要有较高的成品率,这就要求对晶体管光刻工艺进行改造和发展.同时给出了SnO2/16%CeO2,ZnO/l% CeO2,Fe2O3/2% CeO2,TiO2/2% CeO2,ZnSnO3(ZnO+SnO2)元件的气敏特性.
粉末溅射金属氧化物薄膜 气敏元件 晶体管光刻工艺 稳定性分析
张礼 赵志桓 曲建飞 王传超 裘南畹
济南半导体元件所,山东 济南 250014 山东大学物理学院,山东 济南 250011
国内会议
重庆
中文
77-80
2014-09-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)