不同退火温度下氧化锌薄膜光学性能的研究

摘要：

采用磁控溅射法在石英衬底上制备出结晶性良好的氧化锌薄膜,并在氧气气氛中不同的温度(100-800℃)下进行退火处理.然后利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、椭偏仪对其结晶性能和光学性能进行了表征,探讨了退火温度对薄膜光学性能的影响,并分析其原因。

关键词： 氧化锌半导体薄膜 退火温度 结晶性能 折射率

作者: 庞天奇 邓金祥 王吉有 陈亮 陈仁刚 苗一鸣

作者单位: 北京工业大学应用数理学院,北京 100124

会议类型: 国内会议

会议名称: 2014`全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会暨第七届中国微纳电子技术交流与学术研讨会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 65-68

在线出版日期: 2014-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）