真空灭弧室杯状纵向磁场触头的仿真分析
真空灭弧室是真空断路器的核心,触头结构参数的合理设计对提高真空开关电流开断能力起着至关重要的作用.本文利用有限元方法建立了触头片非径向开槽和径向开槽两种杯状纵磁触头模型,分析了杯指倾斜角、触头片开槽数、触头间槽错角以及开距等参数的变化对触头间隙纵向磁场大小、触头片上的涡流分布以及纵向磁场磁滞时间等的影响.结果显示,触头片非径向开槽纵磁杯状触头在相同条件下比触头片径向开槽触头间隙纵向磁场强:触头片杯指与水平面夹角变大时,纵向磁场有减小的趋势;开槽数增加,纵向磁场变大;开距增加,纵向磁场变小;槽错角增加,纵向磁场基本不变化.非径向开槽的杯状纵磁触头结构,杯指倾斜角赠大,磁滞时间变长;径向开槽的杯状触头,杯指倾斜角增大,磁滞时间缩短.
电力工业 真空断路器 真空灭弧室 纵向磁场触头 仿真分析
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2014-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）