金属钆的激光诱导击穿光谱原位统计分布分析
采用LIBS-OPA对取自不同电迁移部位的金属钆棒的纵剖面进行了原位统计分布分析,探讨了电迁移工艺中不同位置处的杂质元素在其电迁移方向上的分布规律.发现在电迁移工艺上部Ti和Cu的偏析较为严重,而下部即阴极附近的杂质元素含量大大降低且其分布趋于均匀.Ti和Al两个元素在电迁移末端含量发生的较大的变化,出现了一条明显的分界线,说明金属钆中的某些成分组成发生了突变,因此导致其分布发生了较大改变.而Cu,Si,Mo和Fe强度也都发生了不同程度的下降.但其偏析度变化不明显.Ti和Mo是金属钆中出现异常信号较多的元素,说明金属Gd中存在一些Ti和Mo的化合物.采用透射电镜对金属钆棒中的化合物进行了观察,其结果与LIBS--OPA统计的结果较为相符.
金属钆 成分分析 激光诱导击穿光谱法 电迁移工艺 原位分布 统计分析
李冬玲 张勇 王海舟 苗睿瑛
钢铁研究总院 北京有色金属研究总院,北京,100081
国内会议
江西上饶
中文
91-98
2013-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）