硅元素在TiAl合金熔模铸造界面反应中的扩散行为

摘要：

通过在TiAl合金熔模铸造用陶瓷型壳ZrO2面层中添加纯Si元素粉末,研究Ti-46Al和Ti-46Al-7Nb两种合金与纯ZrO2面层与含有Si面层的反应界面.结果表明:4种界面的界面反应扩散层的厚度都约为200μm,但是Si元素的扩散能力远大于Zr的,并与Ti发生反应,可见最深处的反应物离界面约为50μm.

关键词： 钛铝合金 熔模铸造工艺 硅元素 界面反应 扩散行为

作者: 贾燚 肖树龙 徐丽娟 田竞 陈玉勇

作者单位: 哈尔滨工业大学金属精密热加工国家级重点实验室,哈尔滨150001;哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国钛及钛合金学术交流会

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 742-745

在线出版日期: 2013-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）