镁合金高功率脉冲磁控溅射Ta(N)/Ti-Si多层膜性能分析

摘要：

采用高功率脉冲磁控溅射技术在镁合金表面制备了Ta(N)/Ti-Si多层膜,通过场发射扫描电镜、原子力显微镜分别观察了薄膜的断面及表面形貌,利用纳米力学探针和电化学腐蚀实验研究了脉冲偏压对纳米硬度及耐蚀性的影响.结果表明:薄膜沉积速率为27.4～32.7 nm/min;沉积薄膜的纳米硬度为15.5～16.9 GPa;-300 V脉冲偏压下沉积的Ta/Ti-Si多层膜自腐蚀电位提高了864 mV,腐蚀电流密度降低了2个数量级,线性极化电阻提高了69倍,多层膜具有最好的耐蚀性.

关键词： 镁合金 高功率脉冲磁控溅射 多层膜 纳米硬度 耐蚀性

作者: 王龙权 李慕勤 吴明忠

作者单位: 教育部金属耐磨材料及表面工程中心 佳木斯大学 黑龙江 佳木斯 154007 教育部金属耐磨材料及表面工程中心 佳木斯大学 黑龙江 佳木斯 154007;先进焊接与连接国家重点实验室 哈尔滨工业大学 黑龙江 哈尔滨 150001

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届中国体视学与图像分析学术会议

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 274-279

在线出版日期: 2013-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）