TaN单层及Ta/TaN不同调制周期多层薄膜力学性能研究

摘要：

单层TaN薄膜及由柔性Ta及硬TaN层组成的多层Ta/TaN薄膜通过ECR增强直流磁控溅射在不锈钢基体上制备,所有的TaN及Ta/TaN薄膜均制备200min.薄膜厚度及薄膜的截面形貌通过扫描电镜观测,化学结构通过XRD测试,硬度,模量,塑性及结合力分别通过纳米压痕及划痕实验进行测定.结果表明,TaN择优取向为六方010),(300),Ta层为010),(300).单层TaN展现最高硬度,接近40GPa,但结合力较低.5周期的多层薄膜呈现了较高的硬度,最好的塑性及结合力.证明合适的调制周期及层数可以有效地提高薄膜的力学性能,包括硬度,塑性及结合力。

关键词： 不锈钢基体 单层氮化钽薄膜 多层钽薄膜 多层氮化钽薄膜 调制周期 力学性能 直流磁控溅射

作者: 刘星 马国佳 张林 孙刚 段玉平 刘顺华

作者单位: 大连理工大学,辽宁大连116085;北京航空制造工程研究所,北京100024 北京航空制造工程研究所,北京100024 大连理工大学,辽宁大连116085

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届高能束加工技术国际学术会议

会议地点: 青岛

会议语种:中文

页码: 115-119

在线出版日期: 2012-09-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）