基于MCVD工艺制备非零色散位移单模光纤衰减的优化技术

摘要：

MCVD工艺生产的非零色散位移单模光纤,色散和衰减是衡量光纤指标的主要参数之一,为了保证1550um窗口处的衰减控制在0.20dB/km以下,本文结合实际生产,针对MCVD工艺制备非零色散位移单模光纤,提出了降低控制衰减的要点和方法.

关键词： 非零色散位移单模光纤 衰减控制 制备工艺 化学气相沉淀技术

作者: 孙可元 李代军 李庆国 吴雯雯

作者单位: 富通集团有限公司浙江省光纤制备技术工程技术研究中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届中国通信光电线缆产业峰会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 306-309

在线出版日期: 2013-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）