氢化物发生-共振瑞利散射光谱法测定痕量铋
在酸性介质中,NaBH4还原Bi(Ⅲ)为Bi单质,Bi进一步被还原成BiH3.BiH3有强还原性可以还原HAuCl4生成纳米金粒子(AuNPs),AuNPs与十六烷基三甲基溴化铵(CTMAB)形成的结合物在308nm处有一个较强的共振瑞利散射峰.随着Bi3+浓度增加,生成的BiH3增加,AuNPs量增大,结合物增多,在308nm处的共振瑞利散射峰增强.在最优条件下,Bi(Ⅲ)浓度在1.90×10-7～1.38×10-5mol/L的范围与共振瑞利散射峰强度增大值呈良好线性关系.回归方程为ΔI308nm=6.26C+78,检出限为2.9×10-8mol/L.本法用于测胶体果胶铋胶囊中的铋,结果满意.
药品检测 铋含量 氢化物发生法 共振瑞利散射光谱法 痕量分析
曾清 梁爱惠 蒋治良
广西师范大学 环境与资源学院,桂林 541004
国内会议
南宁
中文
117-118
2013-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）