真空镀膜方法制备二氧化钛薄膜研究

摘要：

利用真空镀膜方法以gg.gg％的TiO2粉末为镀膜材料,在不同的沉积速率下,在玻璃衬底上制备TiO2薄膜.利用台阶仪、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对制备的TiO2薄膜性能进行了表征.讨论了不同退火温度对TiO2薄膜结构的影响.结果表明:在镀膜速率为4A/sec条件下制备的TiO2薄膜,膜厚为200nm的样品,在室温条件下,具有无定形结构.450℃退火1h后呈现锐钛矿晶体结构.所得TiO2薄膜均匀,与玻璃片基结合度较好.

关键词： 二氧化钛薄膜 合成工艺 真空镀膜法 性能表征

作者: 王丽丽 张艺伟 张春梅 王正铎 孟涛

作者单位: 北京印刷学院, 北京102600

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国感光学会第八届五次理事会暨2013年学术年会

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 123-125

在线出版日期: 2013-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）