真空喷雾技术及装置设计
真空喷雾法是一种综合了普通喷雾法和真空蒸发法的优点的薄膜制备新方法.由于制备过程在真空中,克服了普通喷雾法和旋涂法的缺点,避免了微尘颗粒、气体和溶剂残留在薄膜中;本方法能控制各组分在薄膜生长方向的浓度分布,制备陡峭界面多层膜和梯度分布薄膜;可使用极低溶解度材料或无法加热蒸发的材料来制备薄膜.利用以上优点,真空喷雾法能够制备出高质量的高分子或无机薄膜.本文介绍了新的真空喷雾镀膜装置的设计,制备出了实用的装置.
薄膜制备工艺 真空喷雾技术 工作装置 结构设计
莫晓亮 陈国荣
复旦大学材料科学系 上海200433
国内会议
合肥
中文
317-318
2013-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）