会议专题

方酸染料的分子结构与光敏性研究

方酸染料 分子结构 光敏性

周立新 林伟 莽朝永 杨娥

福州大学化学系

国内会议

21世纪簇科学与光电材料学科发展趋势研讨会

福州

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92-93

2000-10-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)