钚氧化层表面与小分子相互作用性质的DFT+U+vdW研究

摘要：

钚是重要的裂变核材料,在对钚氧化物及其表面性质研究的基础上,采用DFT+U+vdW方法计入气体分子与固体表面的van der Waals(vdW)弱相互作用,系统研究了H2、O2和H2O三种小分子与钚氧化层表面的相互作用行为和性质.

关键词： 核工业 钚氧化物 表面性能 数值模拟

作者: 孙博

作者单位: 北京应用物理与计算数学研究所 北京海淀区丰豪东路2号,100094

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国青年计算物理学术交流会

会议地点: 桂林

会议语种:中文

页码: 20-21

在线出版日期: 2013-08-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）