X射线反射(XRR)对薄膜样品厚度的研究

摘要：

本文介绍X射线粉末衍射仪对一面镀有有机导电薄膜的单晶硅片的研究，用X射线全反射(XRR)可以精确地测量平整光滑基底材料上薄膜的厚度和多层薄膜的厚度，其绝对误差可＜1nm，即精度优于1nm。说明该方法可适用于绝大多数镀层材料镀层薄膜厚度的测定。与其它测定薄膜厚度方法比较，该方法具有简单、有效、无损、经济的特点。

关键词： 薄膜材料 X射线反射 厚度测定 结构表征

作者: 于吉顺 陆琦 肖平 张锦化

作者单位: 中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室,湖北武汉430074;中国地质大学材料科学与化学工程学院,湖北武汉430074 中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室,湖北武汉430074 中国地质大学地球科学学院,湖北武汉430074 中国地质大学材料科学与化学工程学院,湖北武汉430074

会议类型: 国内会议

会议名称: 帕纳科第11届用户X射线分析仪器技术交流会

会议地点: 西宁

会议语种:中文

页码: 84-88

在线出版日期: 2010-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）