高效大面积纳米硅基薄膜叠层太阳电池技术
本文介绍面积为1245mm*635mm的玻璃基板上开发的纳米硅基薄膜太阳电池技术的研究进展.主要包括以下几个方面的内容:1)不同纳米硅沉积速率的工艺优化;2)在a-Si与nc-Si,或a-SiGe与nc-Si子电池间的N/P隧穿结的材料特性的改善;3)不同的透明导电(TCO)玻璃陷光效应,如不同的掺F的Sn02(FTO)以及自主研发的掺B的Zn0(BZO)薄膜;4)nc-Si本征层的晶化率和均匀性;5)a-Si/nc-Si双结电池与a-Si/a-SiGe/nc-Si三结电池IV特性分析;6)激光刻线的工艺优化和死区的改善.通过以上几个方面的工艺、电池结构与性能的优化,在0.79m2的玻璃基板上制备出初始全面积转换效率12％以上的高效率纳米硅基薄膜叠层太阳电池.
纳米硅薄膜太阳电池 制备工艺 电学性能 产品质量
张津岩 李沅民 张晓丹 赵颖 徐希翔 胡安红 曲铭浩 郁操 汝小宁 彭长涛 单洪青 林福荣
铂阳装备集团研发中心 汉能创昱科技有限公司汉能创昱科技有限公司 汉能高科技产业集团 南开大学
国内会议
北京
中文
325-332
2013-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）