基于n型SiOx层的高效率非晶硅/纳米硅叠层电池的制备
N型纳米SiOx薄膜用于硅基薄膜太阳电池的n层,与传统的a-Si n层或a-Si/nc-Si双层结构的n层相比,SiOx层具有更小的光吸收.同时低折射率的SiOx薄膜具有良好的光反射性能,将更多的太阳光反射到电池中,增加对太阳光的吸收.另外,由于纳米SiOx具有宽的带隙,它能够提高硅基薄膜电池的内建电场,对电池的开路电压以及非晶硅电池的稳定性能都有改善作用.采用掺杂的纳米SiOx薄膜作为电池的n层,不仅有助于提高电池的初始转换效率,同时也能够明显改善非晶硅电池的光致衰变率.通过对不同纳米SiOx的n层的结构与性能的优化,在0.79m2的玻璃基板上成功制备出初始转换效率12％以上的非晶硅/纳米硅叠层电池.
硅基薄膜太阳电池 非晶硅 纳米硅 制备工艺 物理性能 数值分析
胡安红 张津岩 曲铭浩 周星红 郁操 徐希翔
铂阳装备集团公司研发中心 汉能创昱科技有限公司
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348-353
2013-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）