预量层溅射顺序对硒化后CZTSSe薄膜结构和形貌的影响
采用ZnS,SnS和Cu靶材作为溅射靶材制备预置层,其中ZnS和SnS采用射频的方法溅射,金属Cu则采用直流溅射.预置层在550的高温下进行硒化,采用XRF、XRD、SEM、Raman scope及台阶仪等测试,分析比较Cu/ZnS/SnS/Mo/Glass、Cu/SnS/ZnS/Mo/Glass、ZnS/Cu/SnS/Mo/Glass、ZnS/SnS/Cu/Mo/Glass、SnS/ZnS/Cu/Mo/Glass、SnS/Cu/ZnS/Mo/Glass等六种预置层堆叠顺序,以及硒化后得到的CZTSSe薄膜的应力、晶相结构和表面形貌等.Cu/ZnS/SnS/Mo/Glass、Cu/SnS/ZnS/Mo/Glass这两种预置层硒化后的都能得到附着力良好并且较为平整致密的CZTSe薄膜,薄膜中主要晶体颗粒都为Cu2ZnSnSe4,并含有少量CuSe、CuS2和SnSe2等杂相.
锌锡硫硒薄膜 溅射后硒化硫化工艺 优化设计 表面质量
李建军 张毅 周志强 刘玮 孙云
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津 300071
国内会议
北京
中文
160-164
2013-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）