反应溅射制备AIN纳米薄膜中沉积速率的研究
通过对溅射过程中辉光放电视现象及薄膜沉积速率的研究,发现随着氮浓度的增大,靶面上形成一层不稳定的AIN层,由于AIN的溅射速率远小于A1,从而使薄膜的沉积速率显著下降.同时还研究了其它溅射参数对薄膜沉积速率的影响,结果表明:随靶基距的增大和靶功率的减小,不同程度引起沉积速率的下降;随着溅射气压的增大,最初沉积速率不断增大,当溅射气压增大到一定程序时,沉积速率达到最大值,之后随溅射气压的增大,又不断减小.
反应溅射 氮化铝纳米薄膜 沉积速率
武海顺 许小红 张聪杰 张富强
山西师范大学化学系(临汾)
国内会议
杭州
中文
A107-A110
2001-05-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）