热镜膜的制备工艺探索及性能研究

摘要：

分析了热解法镀膜中多种工艺参数对ＳｎＯ〈，２〉：Ｉ热镜膜性能的影响，并对其影响原因进行了讨论，得到了较佳的镀制工艺条件：基材温度Ｔ〈，Ｓ〉为４５０℃，ＮＨ〈，３〉Ｉ、ＨＣｌ掺杂比例分别为０．３℅（重量比），１．０℅（体积比）、宜采用间歇式喷镀。

关键词： 反应溅射 光电特性

作者: 张寅平 葛新石

作者单位: 大学热能工程系 科学技术大学

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国科协第三届青年学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 76～78

在线出版日期: 1998-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）