铁氧体薄膜电路图形金属化技术的研究

摘要：

研究了铁氧体薄膜电路图形金属化技术,分别对基于加法原理与减法原理的两种图形金属化工艺进行了分析比较,确定了较适合铁氧体微带薄膜器件加工的图形金属化技术,给出了最佳工艺条件的确定方法.

关键词： 铁氧体薄膜电路器件 图形金属化技术 加工工艺 比较分析

作者: 张为国 倪经 周俊 曹照亮 李扬兴

作者单位: 中国电子科技集团公司第九研究所,四川绵阳105信箱,621000

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国微波磁学会议

会议地点: 浙江金华

会议语种:中文

页码: 167-171

在线出版日期: 2011-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）