高斯光束传播对激光熔覆覆层的影响
高斯激光束传播对激光熔覆质量有显著影响.为探索高斯光束传播对覆层几何形貌、结合质量以及稀释率的影响，以Fe901+5％Cr3C2熔覆材料为研究对象，对高斯光束不同离焦区域进行了激光熔覆工艺实验，对比了正、负离焦工艺.利用金相显微镜对熔覆层几何形貌、微观结构进行分析，并对显微硬度分布进行了测试与对比.结果显示，采用负离焦工艺进行激光熔覆，可获得稀释率较低，边缘良好冶金结合，无未熔颗粒、缺陷的覆层，覆层显微硬度在900-1000HV0.2.
激光熔覆 负离焦 稀释率
高文焱 赵树森 林学春
中国科学院半导体研究所全固态光源实验室 北京 100083
国内会议
北京
中文
47-54
2013-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）