基于像质计灵敏度的曝光曲线及工艺参数优化
射线检测的曝光曲线是选择、确定检测工艺参数的重要依据.常规曝光曲线确定的工艺参数可以使得底片的黑度达到所期望的值,但不能反映射线检测的影像质量是否达到像质计灵敏度要求.因此,常规曝光曲线在实际应用时存在一定的局限性.本文应用对比度公式,分析了丝型像质计灵敏度与各工艺参数的关系,从理论上探讨了制作反映灵敏度的曝光曲线的可行性.设计了实验方法,在常规曝光曲线、散射比变化曲线的实验测量基础上,获得了灵敏度曝光曲线.研究结果表明,应用灵敏度曝光曲线,结合常规曝光曲线选择工艺参数,可以便底片黑度、检测灵敏度同时符合要求,达到优化工艺参数的目的.
金属分析试验 射线检测 像质计灵敏度 参数优化
张小海 李素军 敖波 余欣辉
南昌航空大学测试技术与控制工程系,南昌 330063
国内会议
南昌
中文
861-866
2013-09-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）