TBP-TEVA联合分离-同位素稀释质谱法测定铀产品中痕量钚
采用TBP色层柱与TEVA色层柱组合建立了铀产品中痕量钚的分离流程，采用氨基磺酸亚铁将样品中的钚还原至Pu(Ⅲ)，上TBP色层柱后用3M HNO3-0.05M HF淋洗Pu(Ⅲ)，用NaNO2将流出液中的Pu(Ⅲ)调至Pu(Ⅳ)后上TEVA色层柱，并用2M硝酸淋洗铀，再用0.02M HF-0.02M HNO3将Pu(Ⅳ)洗脱，采用同位素稀释质谱法测量其中钚的含量。对TBP萃取色层柱分离铀中钚的淋洗曲线和回收率、TEVA色层柱不同酸度下铀的淋洗曲线、钚的淋洗曲线和回收率等条件进行了研究，确定了分离条件，对ICP-MS测量239Pu时铀的干扰影响进行了考察评估。建立了痕量钚的分析方法，对常量铀的去污因子高(平均去污因子3.2×107);用同位素稀释质谱法测定239Pu的灵敏度高、数据可靠。
铀产品 痕量钚 分离流程 色层柱 同位素稀释质谱法
金花 苏玉兰 应浙聪 赵胜洋
中国原子能科学研究院
国内会议
成都
中文
79-80
2012-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）