氧氮化硅的合成研究

摘要：

以金属Si粉和SiO2微粉为反应原料,在真空感应炉中高纯氮气1600℃保温2h条件下,不同Si/SiO2比(1.5∶1∶2∶1;2.5∶1;3∶1)合成了Si2N2O,利用XRD、SEM和EDS等手段对合成产物的相组成和形貌进行了表征.结果表明:Si/SiO2比为3∶1时可以合成高纯的微米级的片状和板状Si2N2O,此时产物中Si2N2O原子比非常接近于理论原子比.

关键词： 耐火材料 氧氮化硅 合成工艺 显微结构 热力学分析

作者: 聂建华 邱文冬 李维锋 宋飞 乔婉 尹国恒 梁永和 尹玉成

作者单位: 武汉科技大学耐火材料与高温陶瓷国家重点实验室培育基地,湖北武汉430081 上海宝钢工业技术服务有限公司,上海201902

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 879-881

在线出版日期: 2012-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）