源气浓度对CVD ZrC涂层的影响

摘要：

以ZrCl4、 CH4为源气,H2和Ar为稀释气体和载气,采用化学气相沉积法(CVD)制备了ZrC涂层,研究了源气C/Zr比对ZrC涂层组成及形貌的影响.通过表征得出ZrC涂层表面比较粗糙,随着源气中C/Zr减小,ZrC涂层表面块状颗粒更致密,颗粒大小趋于一致;ZrC涂层中有Zr、C、O元素,含有化学计量比为1∶1的ZrC相和自由碳相,随着源气中C/Zr减小,涂层中Zr的原子分数相应增大,涂层中只有约20％的Zr元素与C结合形成ZrC.

关键词： 复合材料 抗烧蚀涂层 化学气相沉积法 源气浓度

作者: 张笔峰 李伟 王松 陈朝辉

作者单位: 国防科学技术大学 新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,湖南 长沙 410073

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 45-48

在线出版日期: 2012-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）