运用有效介质理论模拟氧化钒薄膜的光学特性

摘要：

采用直流反应磁控溅射法在Si(100)基片上生长了厚度分别为14.9,34.1,57.6,70.0,83.4和101.7 nm的氧化钒薄膜.利用光谱式椭偏仪,并采用基于Bruggeman有效介质理论的Lorentz经典共振模型对所制备的薄膜的膜厚、折射率、消光系数进行了模拟和测量,实验表明薄膜厚度在(10～100) nm左右时,对应于633.18 nm测试波长,薄膜的折射率在1.9～2.9,消光系数在0.1～1.

关键词： 氧化钒薄膜 制备工艺 光学特性 有效介质理论

作者: 魏雄邦 廖家轩 吴志明 蒋亚东

作者单位: 电子科技大学电子科学技术研究所,四川成都611731 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 106-110

在线出版日期: 2012-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）