沉积参数对磁控溅射沉积Ti-B-C薄膜力学性能的影响

摘要：

采用Ti/B4C复合靶作为靶材,通过磁控溅射方法沉积了成分、结构可调的Ti-B-C薄膜.利用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)分析了Ti-B-C薄膜的成分和结构,利用纳米压痕法测量了Ti-B-C薄膜的力学性能.结果表明,励磁线圈电流改变会影响薄膜的成分和结构,沉积温度改变对薄膜的成分无明显影响,但会影响薄膜结构,溅射电压改变对薄膜的成分和结构均无明显影响.薄膜的力学性能是薄膜中内应力和晶态硬质相含量综合作用的结果.通过调整沉积参数以及热处理条件,可以获得性能优异的Ti-B-C薄膜.

关键词： 钛-硼-碳薄膜 磁控溅射法 沉积参数 力学性能

作者: 徐淑艳 王立海 肖生苓 罗甸 唐光泽 马欣新

作者单位: 东北林业大学,黑龙江 哈尔滨 150040 哈尔滨工业大学,黑龙江 哈尔滨 150001

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 179-182

在线出版日期: 2012-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）