氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS研究
(0) X射线光电子能谱(XPS)是一种分析物质表面(5 nm以内)化学元素及元素化学状态的表面分析技术.由于大部分样品在进行XPS分析前均处于大气环境,容易导致吸附污染.为测得样品表面真实的信息,就必须对样品表面进行前期的清洁处理.常用的表面清洁技术是氩离子刻蚀技术.低能氩离子束可将样品表面吸附的污染层除掉,起到表面清洁作用,而高能氩离子束可对样品表面进行深度剖析,到剥离表面原子层的作用,.氩离子刻蚀可以改变多种化合物的成分以及化学状态.例如,金属氧化物TiO2,NiO,Ta2O5,V2O5,Bi2O3,Fe3O4,Nb2O5, Bi2O3,WO3等经氩离子刻蚀之后能被还原成低价态的氧化物或金属态.由于在氩离子深度剖析中很难区分样品真实化学状态与氩离子刻蚀引起的还原态之间的差别,所以不能准确地判定样品的化学状态.
氧化铜 结构表征 氩离子刻蚀 X射线光电子能谱
李晓莉 谢方艳 龚力 张卫红 于晓龙 陈建
中山大学测试中心,广东广州,510275;海南大学材料与化工学院,海南海口,570228 中山大学测试中心,广东广州,510275 海南大学材料与化工学院,海南海口,570228
国内会议
成都
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27-28
2012-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）